高强低介电光敏树脂的制备及性能
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Preparation and Properties of High Strength and Low Dielectric Photosensitive Resin
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    摘要:

    文中以不同质量的1-(哌啶-1-基)-2-丙烯-1-酮(PPEO)、1,9-壬二醇二丙烯酸酯(NDDA)、甲基丙烯酸三环癸-8-基酯(DPMA)、异氰脲酸酯三-2-羟乙基三甲基丙烯酸酯(THEITMA)及聚乙二醇二丙烯酸酯(PEGDA)通过共混制得系列光敏树脂油墨。通过UV固化将油墨固化成膜。预聚物PEGDA加入量为10%时,固化后的膜玻璃化转变温度最高可达到198 ℃,氮气中热失重温度可达到388 ℃;PEGDA质量分数为10%时,力学性能最优,达到53 MPa。当PEGDA质量分数为20%时,由于C—H键结构数量的增加,使得介电常数下降,在20 GHz频率环境下介电常数最低降至2.83。PEGDA的质量分数由5%增加20%时,油墨黏度由41 mPa·s降低至32 mPa·s,在0~200 s -1 剪切速率下树脂油墨表现出牛顿流体的性质,适配喷墨3D打印工艺。这些结果表明,PEGDA系列光敏油墨综合性能优异,在微电子材料领域具有较高的应用价值。

    Abstract:

    In this paper, a series of photosensitive resin inks were produced by blending of 1-(piperidin-1-yl)-2-propen-1-one (PPEO), 1,9-nonanediol diacrylate (NDDA), tricyclo[5.2.1.02,6]deca-8-yl methacrylate (DPMA), tri-2- hydroxyethyl trimethacrylate of isocyanuric acid (THEITMA) and poly(ethylene glycol) diacrylate (PEDGA). The inks were cured by UV curing to result in a thin robust film. When the prepolymer PEGDA mass fraction is 5%, the cured sample exhibits the maximum glass transition temperature for 198 ℃ and a thermal decomposition temperature in nitrogen for 388 ℃. When the mass fraction of PEGDA reaches 10%, the tensile stress reveals the highest value of 53 MPa. When the mass friction of PEGDA is increased to 20%, the increase of number of C—H bonding structures results in a decrease in dielectric constant with the lowest value for 2.83 at 20 GHz. With PEGDA loading ranged 5% to 20%, the viscosity of the ink decreases from 41 mPa· s to 32 mPa· s, with a typical nature of Newtonian Fluid at the shear rate of 0~200 s-1 simultaneously. These results indicate that the PEGDA series of photosensitive inks have excellent comprehensive performance and commendable application value in microelectronic and other high-tech communication fields.

    参考文献
    相似文献
    引证文献
引用本文

孙浩,姜玲梅,张广胜,宗立率,王锦艳,蹇锡高.高强低介电光敏树脂的制备及性能[J].高分子材料科学与工程,2025,41(1):1-9. Hao Sun, Lingmei Jiang, Guangsheng Zhang, Lishuai Zong, Jinyan Wang, Xigao Jian. Preparation and Properties of High Strength and Low Dielectric Photosensitive Resin[J]. Polymer Materials Science & Engineering,2025,41(1):1-9.

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